2025先进光刻技术研讨会将于2025年5月17日在中国光谷科技会展中心（湖北·武汉）隆重召开。本次大会汇聚行业顶尖学者、行业领袖、科研人员、共同分享光刻技术领域的最新研究成果和实践经验，探讨光刻技术的最新突破与未来发展方向，探讨行业面临的挑战与机遇，为推动光刻技术的进一步发展提供交流平台。

会议将围绕极紫外光源、纳米压印光刻工艺、套刻测量技术研究等多个关键领域展开深入探讨光刻技术的关键挑战与机遇，前沿技术与行业洞见，产学研合作，共谋未来。

组织委员会

大会主席

谭久彬

中国工程院院士，哈尔滨工业大学超精密光电仪器工程研究所教授

大会共主席

（按姓氏字母顺序）

刘杨

哈尔滨工业大学教授，国家级青年人才

韦亚一

中国科学院大学特聘教授，中国科学院微电子研究所研究员

大会学术委员会

（按姓氏字母顺序）

姜伟

华中科技大学机械科学与工程学院/智能制造装备与技术全国重点实验室教授，华中学者卓越首席 

李思坤

中国科学院上海光学精密机械研究所高端光电装备技术支撑中心副主任，中国科学院光电技术研究所客座研究员

李祥明

西安交通大学机械工程学院/前沿院教授，国家重点研发专项青年科学家首席 

林楠

中国科学院上海光学精密机械研究所研究员，超强激光科学与技术全国重点实验室副主任

齐月静

中国科学院微电子研究所副主任，研究员

俞宗强

东方晶源微电子科技（北京）有限公司董事长、首席技术官

（更多嘉宾持续更新ing......）

本次研讨会不仅是技术交流的平台，更是推动产业合作的重要契机。行业领先企业、研究机构及设备供应商将共同探讨技术路线图，加速先进光刻技术的商业化进程。2025先进光刻技术研讨会将为行业提供一个前瞻性的视角，助力行业突破物理极限，推动领域创新发展。让我们共同期待这场科技盛宴，见证光刻技术的下一个里程碑。

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详情请关注“武汉光博会”公众号